杨赵诗怡

杨赵诗怡助理工程师主要负责红外探测芯片相关的微纳加工与薄膜制备工作。当前参与红外器件制备流程中的光刻、薄膜生长、湿法刻蚀、反应离子刻蚀（RIE）、原子层沉积（ALD）及电子束蒸发沉积等工艺，并开展 AZO、IZO 等透明导电氧化物薄膜的制备与工艺优化。

1. 教育及工作经历

2018.09 — 2022.06 重庆交通大学，本科，工程力学专业

2023.09 —2024.09 曼彻斯特大学，硕士，高级工程材料专业

2025.08 —至今 中国科学院深圳先进技术研究院光子信息与能源材料研究中心，助理工程师

2. 研究方向

（1）红外探测芯片的微纳加工与器件制备：参与红外探测芯片的图形化、薄膜沉积、刻蚀及相关器件加工流程，关注不同工艺步骤之间的匹配和器件制备稳定性。

（2）光刻与干湿法刻蚀工艺：开展光刻胶涂覆、曝光、显影及图形转移工作，并参与湿法刻蚀和反应离子刻蚀（RIE）工艺的条件优化与结果评估。

（3)功能薄膜沉积与透明导电氧化物材料：参与 AZO、IZO 等透明导电氧化物薄膜的制备与工艺研究，关注沉积条件、后处理及薄膜性能对器件加工的影响。